鈮酸鋰拋光液/研磨液·參數(shù)吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：鈮酸鋰拋光液,鈮酸鋰晶圓拋光漿料,鈮酸鋰研磨拋光液,LN拋光液

產(chǎn)品簡介：為半導(dǎo)體行業(yè)/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學(xué)機(jī)械拋光液/Slurry組合漿料，適用于LiNbO₃精密/超精密領(lǐng)域的平坦化高效加工。設(shè)計滿足鈮酸鋰（LiNbO₃）晶圓提高材料去除率，降低表面粗糙度，獲得超光滑表面。

吉致電子鈮酸鋰拋光液特點——

1.用于大規(guī)模制造LiNbO₃晶片的高性能CMP拋光漿料。

2.經(jīng)特殊工藝合成，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質(zhì)量的拋光精度。

3.實現(xiàn)高去除率，無亞表面損傷，并提供出色的穩(wěn)定性。

4.PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)要求定制。

5.適合與各種拋光墊配合拋光使用。

吉致電子鈮酸鋰拋光漿料LN Slurry應(yīng)用

為光學(xué)表面提供高光潔度

拋光相關(guān)類型的表面（研磨或機(jī)械拋光）以實現(xiàn)原子級光滑的表面光潔度

吉致電子鈮酸鋰（LiNbO₃）晶體拋光液 廣泛應(yīng)用于CMP領(lǐng)域，包括Lapping機(jī)、五軸機(jī)臺、以及其他研磨拋光機(jī)臺等

鈮酸鋰晶圓拋光液拋光過程中具有：

從我們的優(yōu)化解決方案能實現(xiàn)高去除率，無亞表面損傷，同時提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。

吉致電子鈮酸鋰晶圓拋光液/LiNbO₃Slurry拋光液儲存方法：

1.貯存時應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結(jié)冰，在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價格實惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子科技有限公司

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