碳化硅晶圓拋光液·參數(shù)吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：碳化硅晶圓拋光液/硅襯底SIC拋光液/半導(dǎo)體拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液

產(chǎn)品簡介：為電力電子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化學(xué)機(jī)械平坦化配制的拋光液。CMP拋光液大大提高了碳化硅晶圓表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光潔度

吉致電子碳化硅拋光液特點(diǎn)：

·用于可擴(kuò)展制造低缺陷功率和半絕緣 SiC（碳化硅）襯底的高性能Slurry拋光漿料。

·專為滿足Sic晶圓基片C面、單晶硅、多晶硅從研磨到 CMP工藝各階段的規(guī)格而設(shè)計(jì)

·定制硅晶圓工件 CMP 系統(tǒng)的優(yōu)化解決方案，以提供較低的成本

·高拋光速率的拋光液配方，快速高效同時(shí)保持均勻性、零亞表面損傷和低缺陷/劃痕

·Slurry拋光液可大批量制造 (HVM) 并與散裝輸送系統(tǒng)兼容

·可根據(jù)要求設(shè)計(jì)定制解決方案。

拋光過程中具有：

1.高拋光速率 --------精密的磨料和化學(xué)配方專門設(shè)計(jì)，用于SiC外延片碳化硅襯底上提供高去除率和低表面粗糙度

2.高平坦度加工-----吉致碳化硅晶圓精拋液不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液使用方法：

1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。

2.稀釋后，粗拋時(shí)調(diào)節(jié)PH11左右，精拋時(shí)調(diào)節(jié)PH9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?/p>

3.循環(huán)拋光可以用原液。

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液儲(chǔ)存方法：

1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)冰，在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的碳化硅晶圓拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

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