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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]吉致電子 Cu CMP研磨工藝的三個(gè)步驟[ 2024-07-31 15:40 ]
Cu CMP研磨工藝通常包括三步。第一步：用來磨掉晶圓表面的大部分金屬。第二步：通過降低研磨速率的方法精磨與阻擋層接觸的金屬,并通過終點(diǎn)偵測(cè)技術(shù)（Endpoint）使研磨停在阻擋層上。第三步：磨掉阻擋層以及少量的介質(zhì)氧化物,并用大量的去離子水（DIW）清洗研磨墊和晶圓。Cu CMP研磨工藝中第一和第二步的研磨液通常是酸性的,使之對(duì)阻擋層和介質(zhì)層具有高的選擇性,而第三步的研磨液通常是偏堿性,對(duì)不同材料具有不同的選擇性。這兩種研磨液（金屬研磨液/介質(zhì)研磨液）都應(yīng)該含有H2O2、抗腐蝕的BTA（三唑甲基苯）以及其他添加物
http://paqa.com.cn/Article/jzdzcucmpy_1.html3星
[常見問題]打磨碳化硅需要哪種拋光墊？[ 2023-08-17 16:41 ]
  打磨碳化硅需要哪種拋光墊？  打磨碳化硅襯底分研磨和拋光4道工序：粗磨、精磨、粗拋、精拋。拋光墊的選擇根據(jù)CMP工藝制程的不同搭配不同的研磨墊：粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊  吉致電子CMP拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價(jià)比等優(yōu)勢(shì)。結(jié)合硬質(zhì)和軟質(zhì)研磨拋光墊的優(yōu)點(diǎn)，可兼顧工件的平坦度與均勻度碳化硅研磨選擇吉致無紡布復(fù)合拋光墊，提供更快磨合的全局平坦性，提升碳化硅晶圓制程的穩(wěn)定性與尺寸精密度。  壓紋和開槽工藝，讓PAD可保持拋光
http://paqa.com.cn/Article/dmthgxynzp_1.html3星
[應(yīng)用案例]硬質(zhì)合金拋光液--鏡面拋光鎢鋼刀片[ 2023-04-14 15:01 ]
   硬質(zhì)合金刀片具有硬度高、韌性較好、耐熱、耐腐蝕等一系列優(yōu)良性能，特別是它的高硬度和耐磨性，在1000℃時(shí)仍保持較高的硬度。硬質(zhì)合金鎢鋼工件對(duì)于很多拋光工藝來說屬于比較難加工的一種材質(zhì)。鎢鋼刀片拋光目前可通過CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝，搭配金屬專用拋光液達(dá)到理想的表面光潔度。  硬質(zhì)合金刀片又叫鎢鋼刀片，原始件表面有銹斑、劃痕和麻點(diǎn)等不良現(xiàn)象，要解決這些問題需通過平面研磨機(jī)配合吉致電子硬質(zhì)合金研磨液、研磨墊、研磨盤等達(dá)到鏡面效果。  硬質(zhì)合金的CMP機(jī)械化學(xué)鏡面拋光，經(jīng)過粗拋
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[客戶感言]DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果[ 2022-09-20 17:12 ]
我司是做陶瓷覆銅板的，做的是DPC工藝。板材對(duì)粗糙度和平面度有嚴(yán)格要求，搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好，可以達(dá)到我司要求，為了回饋貴司免費(fèi)提供我司拋光液樣品，我分享兩張對(duì)比圖如下：本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng)，版權(quán)歸無錫吉致電子科技，未經(jīng)允許，不得轉(zhuǎn)載，轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://paqa.com.cn/無錫吉致電子科技有限公司聯(lián)系電話：17706168670郵編：214000地址：江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
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