吉致電子研發(fā)的拋光液產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬、光電、集成電路半導(dǎo)體、陶瓷、硬盤、面板顯示器等材質(zhì)表面的深度處理。吉致電子CMP拋光耗材產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于各種CMP領(lǐng)域，包括Lapping機(jī)臺、五軸機(jī)臺、單面拋光機(jī)、雙面拋光機(jī)等其他研磨拋光機(jī)臺設(shè)備。

  拋光液升級配方可用于半導(dǎo)體行業(yè)硅片硅襯底減薄、碳化硅襯底拋光、藍(lán)寶石襯底拋光。針對性更強(qiáng)的拋光液產(chǎn)品如阻擋層化學(xué)機(jī)械拋光液，鎢化學(xué)機(jī)械拋光液以及介質(zhì)層化學(xué)機(jī)械拋光液、淺槽隔離化學(xué)機(jī)械拋光液、用于3D封裝TSV化學(xué)機(jī)械拋光液可詳細(xì)咨詢。拋光液的特點是不傷機(jī)臺和工件，液體分散性好，提高拋光速率改善工件表面質(zhì)量，易清洗無殘留。

吉致電子科技25年研發(fā)經(jīng)驗，實力拋光液生產(chǎn)廠家，可按客戶要求調(diào)整改良配方，提高工件拋磨效果。

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