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[行業(yè)資訊]氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光[ 2024-01-10 11:33 ]
  氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光,需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來(lái)研磨快速去除表面缺陷和不良,精細(xì)拋光液用來(lái)平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專(zhuān)用研磨液/拋光液能減少研磨時(shí)間,同時(shí)提高陶瓷工件拋光的質(zhì)量,幫助客戶(hù)縮短工時(shí)提高工作效率。 陶瓷基板的研磨過(guò)程一般包括雙面研磨(35-60分鐘)和精細(xì)拋光(120分鐘)。在不到2.5小時(shí)的時(shí)間里,得到10-15納米的Ra。 氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案:①雙面研磨(35-60分鐘)搭配吉致電子類(lèi)多晶研磨液 ②超精細(xì)拋
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