納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO₂等多種復(fù)合材料配置而成，通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液，硅拋光液磨料分散性好，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。

吉致電子硅拋光液，CMP拋光slurry應(yīng)用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過程。

4、廣泛用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如：碳化硅襯底、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、藍(lán)寶石襯底等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。

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