玉石拋光液---玉石表盤的CMP拋光工藝
客戶設(shè)計的一款玉石腕表，優(yōu)雅大氣，彰顯如玉的君子氣質(zhì)，其中和田玉表盤的去粗及拋磨拋亮，需要通過CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝來實現(xiàn)。
經(jīng)過吉致電子CMP拋光液與拋光墊的組合拋磨，去除毛坯料表面凹凸不平劃痕，還原出玉石的本真光澤和天然紋理。拋光后表盤工件看起來綿密細(xì)膩、糯性和油脂感足。通過CMP拋光玉石的優(yōu)點是可以快速減薄尺寸，拋光效率快、亮度高，對玉石的損傷小，可以進(jìn)行批量化拋光，降低人工拋光成本。
吉致電子CMP玉石拋光液拋光工藝及效果如下：
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