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[行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應(yīng)用及特點(diǎn)[ 2024-10-10 16:56 ]: 吉致電子納米級(jí)氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產(chǎn)品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過(guò)程中分散均勻，能達(dá)到快速拋光的目的且不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷。納米級(jí)硅溶膠拋光液不易腐蝕設(shè)備，提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面劃傷少。吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控，根據(jù)不同的拋光需求，生產(chǎn)出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液，粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋; http://paqa.com.cn/Article/nmpgyjzdzy_1.html

[行業(yè)資訊]藍(lán)寶石襯底研磨用什么拋光液[ 2023-08-25 13:36 ]: CMP工藝怎么研磨藍(lán)寶石襯底？需要搭配什么拋光液？藍(lán)寶石拋光萬(wàn)能公式：粗拋、中拋、精拋，每道工序使用不同磨料的拋光液和拋光PAD：①藍(lán)寶石CMP粗磨：藍(lán)寶石襯底粗磨可以選擇硬度高切削力強(qiáng)的吉致金剛石研磨液，搭配金剛石磨盤(pán)，速率高效果好可有效去除藍(lán)寶石表面的不平和劃痕。②藍(lán)寶石CMP中拋：這一步可以用銅盤(pán)+小粒徑的金剛石研磨液，用來(lái)去除粗拋留下的紋路，為鏡面拋光做前期準(zhǔn)備。③藍(lán)寶石CMP精拋：CMP精拋是藍(lán)寶石襯底最后一道工序，需要用到拋光墊+納米氧化硅拋光液來(lái)收光，呈現(xiàn)平坦無(wú)暇的鏡面效果。; http://paqa.com.cn/Article/lbscdymysm_1.html

[行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-11-18 16:10 ]: 納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復(fù)合材料配置而成，通過(guò)電解法或離子交換法制備成納米拋光液，硅拋光液磨料分散性好，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液，CMP拋光slurry應(yīng)用范圍：1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多; http://paqa.com.cn/Article/nmyhgpgydt_1.html

[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]: 吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO2）磨料及多種復(fù)合材料配置而成，不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷，拋光率高。2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達(dá)到高速拋光的目的。3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設(shè)備，無(wú)毒無(wú)害使用安全性能高。4，可實(shí)現(xiàn)高平坦化加工。5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。吉致電子通過(guò)科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的; http://paqa.com.cn/Article/jzdznmyhgp_1.html

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